特許

J-GLOBAL ID：200903051589542990

防汚皮膜及びその形成方法

発明者： 高野 暁己 ,  竹内 良昭 ,  村田 正義
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-301167
公開番号（公開出願番号）：特開2000-128581
出願日： 1998年10月22日
公開日（公表日）： 2000年05月09日
要約：

【要約】【課題】表面反射率を低減できるとともに、良好な光触媒特性を維持することを課題とする。【解決手段】ガラス基板1と、このガラス基板1上に形成されたSnO2 膜2と、このSnO2 膜2上に形成され、表面に深さ200nm以下の微細な凹凸を有するTiO2 膜3とを具備することを特徴とする防汚皮膜。

請求項（抜粋）：

透明基板と、この透明基板上に形成された透明導電膜と、この透明導電膜上に形成され、表面に深さ200nm以下の微細な凹凸を有するTiO2 膜とを具備することを特徴とする防汚皮膜。

IPC (3件)：

C03C 17/34 ,  C01G 23/04 ,  H01L 31/042

FI (3件)：

C03C 17/34 Z ,  C01G 23/04 C ,  H01L 31/04 R

Fターム (20件)：

4G047CA02 ,  4G047CB04 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G059AA01 ,  4G059AC01 ,  4G059AC12 ,  4G059AC22 ,  4G059EA02 ,  4G059EB03 ,  4G059GA01 ,  4G059GA04 ,  4G059GA12 ,  5F051BA17 ,  5F051FA02 ,  5F051FA03 ,  5F051GA02 ,  5F051GA03 ,  5F051GA16 ,  5F051HA03