特許
J-GLOBAL ID:200903051591726209

改良型ガス散布板を用いるエッチング

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 芳樹 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-106381
公開番号(公開出願番号):特開平10-064888
出願日: 1997年04月23日
公開日(公表日): 1998年03月06日
要約:
【要約】【課題】 非常に薄いが機械的剛性及び強度に対する要請にも適合するような、改良型のGDPを提供する。【解決手段】 本発明のGDPは、放射熱損失によって決まる平衡温度に迅速に加熱されるよう十分小さな質量を有している。GDPのプロファイルは、ウエハ表面の上に一様にガスを散布するように与えらる。中央部分を薄くしているため、GDPの質量を小さくすることができ、GDPを迅速に平衡温度まで加熱することができるようになる。このGDPの薄くなった中央部分には、中心で速くなるプロセスガス流れを補償するために、小さなホールを有していてもよく、このホールのサイズと数はGDPの周縁に近づくにつれて増え、ウエハエッジのプロセスガス流れを高める。
請求項(抜粋):
ガス散布のための装置であって、上面と底面とを有し、プロファイルが与えられた断面を有する、アパーチャ付き板を備え、前記板が放射熱移動により決められる平衡温度に迅速に加熱されるガス散布装置。
IPC (3件):
H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205
FI (3件):
H01L 21/302 B ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/205

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