シリル化装置およびシリル化方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：船橋國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-060912
公開番号（公開出願番号）：特開平11-258821
出願日： 1998年03月12日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：

【要約】【課題】シリル化層は拡散現象を利用して形成されるためにパターンサイズの疎密依存があり、またシリル化層はエッチングにより寸法が変化するため、シリル化層を用いた高精度な微細パターンの形成が困難になっている。【解決手段】ウエハ30に形成された薄膜33の表面にシリル化剤を供給してこの薄膜33をシリル化するシリル化装置1には、薄膜33の表層のみを加熱するエネルギー線Lを発振するエネルギー線源21が備えられていて、このエネルギー線源21はエネルギー線Lをパルス発振するものであり、エネルギー線Lは薄膜33の化学的組成を保った状態でこの薄膜33の表面を加熱する波長を有する光線であることが好ましく、またこのシリル化装置1にはウエハ30が載置されかつ冷却されるステージ12が備えられている。

請求項（抜粋）：

ウエハに形成された薄膜の表面にシリル化剤を供給して該薄膜をシリル化するシリル化装置において、前記薄膜の表層のみを加熱するエネルギー線を発振するエネルギー線源を備えていることを特徴とするシリル化装置。

IPC (3件)：

G03F 7/38 512 , H01L 21/027 , H01L 21/3065

FI (3件)：

G03F 7/38 512 , H01L 21/30 568 , H01L 21/302 H

前のページに戻る