特許
J-GLOBAL ID：200903051596024300
ポリマーマイナスフィルター、その製造方法、及び放射線感受性物体の保護方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青木 朗 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-284257
公開番号（公開出願番号）：特開平5-215916
出願日： 1992年10月22日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：
【要約】【目的】 λ0 を中心とした所定の設計波長に調整された少なくとも一つのポリマー干渉スタックを含んで成る、入射電磁スペクトル帯域用のポリマーマイナスフィルターを提供する。【構成】 λ0 は300nm〜2000nmの範囲にあり、該フィルターは光学的透明な支持体を含んで成り、しかもその上に周囲温度で堆積された多数の組のポリマーの薄い干渉層及び一つの最終の屈折率n2 を有する一つの最終ポリマー層を有し、各組の干渉層はλ0 の1/2波長に等しい全光学厚を有し、各組の部材はそれぞれ屈折率n1 及びn2 を有し、屈折率n2 を有する層は屈折率ns を有する支持体上に直接重ねられており、ns はn1 にほぼ等しく、そしてn2 はn1よりも小さい。
請求項（抜粋）：
λ0 付近を中心とした所定の設計波長に調整された少なくとも一つのポリマー干渉スタックを含んで成る、入射電磁スペクトル帯域用のポリマーマイナスフィルターにおいて、λ0 が300nm〜2000nmの範囲にあり、前記フィルターが、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリアリールスルホン、ポリエステル及びポリスルホンより成る群から選択された光学的透明な支持体を含んで成り、しかもその上に堆積された多数の組のポリマーの薄い干渉層(屈折率n1 を有する該層はポリスチレン、プラズマ重合ヘキサメチルジシロキサン及びポリメチルメタクリレートより成る群から選択され、そして屈折率n2 を有する該層はプラズマ重合ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン及びヘキサメチルジシロキサンより成る群から選択される)と、屈折率n2を有する一つの最終のポリマーの薄い干渉層とを有し、各組の干渉層がλ0 の1/2波長に等しい全光学厚を有し、各組の部材がそれぞれ屈折率n1 及びn2 を有し、屈折率n2 を有する層が屈折率ns を有する前記支持体上に直接重ねられており、ns がn1 にほぼ等しく、そしてn2 がn1 よりも小さい前記ポリマーマイナスフィルター。
IPC (2件)：
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