特許
J-GLOBAL ID:200903051598401747

フォトレジスト用底部反射防止塗料における金属イオンの低減

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐藤 一雄 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-513171
公開番号(公開出願番号):特表平8-503983
出願日: 1993年11月08日
公開日(公表日): 1996年04月30日
要約:
【要約】本発明は、金属イオンの量が非常に少ない底部反射防止塗料組成物、および特別に処理したイオン交換樹脂を使用するその様な組成物の製造法を提供するものである。本発明は、その様な底部反射防止塗料組成物を使用して製造したフォトレジストおよびその様なフォトレジストを使用する半導体デバイスの製造法も提供するものである。
請求項(抜粋):
下記を含んでなることを特徴とする、金属イオンの含有量が非常に低い底部反射防止塗料の製造法。a)酸性イオン交換樹脂を水で処理し、前記イオン交換樹脂を鉱酸溶液で洗浄し、それによってイオン交換樹脂中のナトリウムおよび鉄イオンの量をそれぞれ500ppb未満に下げること、b)適当な溶剤中2〜50重量%の、メチルビニルエーテルおよび無水マレイン酸の共重合体と、分子量が約500〜約100,000である適当な染料の反応生成物の溶液を用意すること、c)前記溶液をイオン交換樹脂に通し、それによって溶液中のナトリウムおよび鉄イオンの量をそれぞれ200ppb未満に下げること、およびd)下記のものを混合することにより、底部反射防止塗料組成物を製造すること。 (1)前記溶液および (2)適当な溶剤
IPC (4件):
C09D135/08 PFW ,  C09D161/06 PHG ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/027

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