特許

J-GLOBAL ID：200903051600213589

電子プローブマイクロアナライザーによるマッピング分析データの補正装置

発明者： 高橋 秀之
出願人/特許権者： 日本電子株式会社
代理人 (1件)： 最上 健治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-128112
公開番号（公開出願番号）：特開平11-304735
出願日： 1998年04月23日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：

【要約】【課題】 表面が傾斜した又は平滑でない試料についても、実効X線取り出し角に基づくX線吸収補正係数を求めて高精度のX線分析を容易に行えるようにした電子プローブマイクロアナライザーを提供する。【解決手段】 試料表面の分析領域を指定し、指定された分析領域を規定する複数の基準点位置について高さ位置(Z座標)が測定され、そのZ座標並びにX,Y座標に基づいて分析領域の傾斜情報を求める。分析領域内の各分析点の高さ位置に関する情報と前記傾斜情報から実効X線取り出し角を求め、該実効X線取り出し角に基づいてX線吸収補正係数を求めてマッピング分析データを補正し、高精度のX線分析データを得る。

請求項（抜粋）：

試料に電子線を照射して該試料から放出される特性X線を分光器により検出して試料表面の元素のマッピング分析を行う電子プローブマイクロアナライザーによるマッピング分析データの補正装置において、試料表面を観察する観察手段と、該観察手段によって観察された画像に基づいて試料表面の分析領域を指定するための位置設定手段と、指定された分析領域を規定する複数の設定点位置での高さ位置(Z座標)を測定するための高さ位置測定手段と、前記設定点位置のX,Y座標及び前記高さ位置に関する情報に基づいて前記指定された分析領域の傾斜情報を求める手段と、前記分析領域内に設定される複数の分析点の位置の情報及び前記複数の設定点位置の高さ位置に関する情報に基づいて該分析点の高さ位置に関する情報を求める手段と、前記分析点の高さ位置に関する情報と前記分析領域の傾斜情報に基づいて各分析点における実効X線取り出し角を求める手段と、該実効X線取り出し角に基づいてX線吸収補正係数を求めマッピング分析データを補正する手段とを備えていることを特徴とする電子プローブマイクロアナライザーによるマッピング分析データの補正装置。

IPC (2件)：

G01N 23/225 ,  H01J 37/252

FI (2件)：

G01N 23/225 ,  H01J 37/252 A