特許

J-GLOBAL ID：200903051603018728

露光方法と洗浄方法とデバイスの製造方法、および露光装置

発明者： 青木 貴史
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-087562
公開番号（公開出願番号）：特開2001-274070
出願日： 2000年03月27日
公開日（公表日）： 2001年10月05日
要約：

【要約】【課題】 露光方法と洗浄方法とデバイスの製造方法、および露光装置において、真空紫外光を用いた場合でも確実な光学部材の洗浄が可能であるとともに、コストアップを低減し、スループットをほとんど低下させないこと。【解決手段】 第1の波長の光ILの光路内に配置された光学部材2a、3、6・・・に、前記第1の波長の光よりも波長が長い第2の波長の光CLを照射し、光学部材を光洗浄することにより、転写前に光学部材表面に付着した不純物を排除して「曇り」を一度にかつ容易に除去することができ、第1の波長の光による十分な照度を確保することができる。

請求項（抜粋）：

第1の波長の光をマスクに照射し、該第1の波長の光のもとでマスク上のパターンを基板に転写する露光方法であって、前記転写前に、前記第1の波長の光の光路内に配置された光学部材に、前記第1の波長の光よりも波長が長い第2の波長の光を照射し、前記光学部材を光洗浄することを特徴とする露光方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  B08B 7/00 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521

FI (5件)：

B08B 7/00 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 Z ,  H01L 21/30 503 G

Fターム (11件)：

2H097AA03 ,  2H097BA04 ,  2H097CA13 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  3B116AA02 ,  3B116AB01 ,  3B116BC01 ,  5F046CA03 ,  5F046CB01 ,  5F046DA30