露光用マスク及びこの露光用マスクを用いた露光方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：外川英明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-375492
公開番号（公開出願番号）：特開2002-182367
出願日： 1992年11月13日
公開日（公表日）： 2002年06月26日
要約：

【要約】【目的】単層半透明膜を用いた位相シフトマスクに関し、パターン領域外への光の照射を抑え、露光量の過剰によるパターン寸法の細りや焦点深度の不足を解消することができる露光マスク及びこの露光マスクを用いた露光方法を提供する。【構成】透光性基板上に半透明膜を含むマスクパターン配設されており、このマスクパターン形成領域とパターン非形成領域の境界に沿って、遮光膜が配置されている。そして、パターン非形成領域にはアライメント用または検査用マークが含まれている。

請求項（抜粋）：

透光性基板と、前記透光性基板上に配設されたマスクパターンを具備したマスクに於いて、前記マスクパターンとして半透明膜と遮光膜を含み、前記遮光膜が且つ半透明膜を含むパターン形成領域とパターン非形成領域の境界に沿って、パターン非形成領域に配置されていることを特徴とする露光用マスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/08 D , G03F 1/08 A , G03F 1/08 M , H01L 21/30 502 P

Fターム (8件)：

2H095BA01 , 2H095BB02 , 2H095BB03 , 2H095BB36 , 2H095BC05 , 2H095BC09 , 2H095BE01 , 2H095BE03

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開平4-025841
特開平2-127641
特開平4-025841

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