特許
J-GLOBAL ID：200903051647712982
ゲート及び真空処理装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-048834
公開番号（公開出願番号）：特開平5-251361
出願日： 1992年03月05日
公開日（公表日）： 1993年09月28日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 本発明は、基板等の真空処理に好適で、安価でシンプルな構造、高安定性、高信頼性であるゲートおよびそのゲートを有する真空処理装置を実現する。【構成】 真空室A、基板等の処理のための真空室Bおよび両真空室を仕切るゲート104を有する装置において、そのゲートは真空室A、Bの圧力差が有る状態で、基板103等をはさみながら真空室Bを所定の真空度に保持するもので、可動部分101を1個としてシールすることを特徴とし、そのゲート104を配備した真空処理装置である。
請求項（抜粋）：
大気圧と真空を繰り返す真空室Aと基板を搬入して所定の処理をする真空室Bと、真空室Aと真空室Bとを仕切るゲートとを有する装置において、前記真空室Aと真空室Bの圧力差が有る状態で基板または支持体をはさみながら真空室Bの所定の真空度を保持するゲートの可動部分が1個でシールすることを特徴とするゲート。
IPC (5件)：
H01L 21/205
, C23C 14/56
, C23C 16/54
, C30B 25/08
, H01L 21/027
