特許
J-GLOBAL ID:200903051655182615

有機物の高度処理方法とその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鴨田 朝雄 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-158876
公開番号(公開出願番号):特開平5-329488
出願日: 1992年05月27日
公開日(公表日): 1993年12月14日
要約:
【要約】【目的】 物理化学的処理や生物化学的処理である2次処理を経た3次処理が施されようとしている被処理水中に存在する低濃度の有機物を安全かつ効率良く分解するための有機物の高度処理方法とその装置を開示する。【構成】 オゾンを含む空気に紫外線を照射して活性酸素を生成させ、この場合に生成した活性酸素を短時間の間に有機物を含む被処理水に接触させ、被処理水中に含まれている有機物を分解する。
請求項(抜粋):
オゾンを含む空気に紫外線を照射して活性酸素を生成させ、有機物を含む被処理水に前記活性酸素を短時間の間に接触させ、被処理水中に含まれている有機物を分解することを特徴とする有機物の高度処理方法。
IPC (2件):
C02F 1/78 ,  C02F 1/32

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