特許

J-GLOBAL ID：200903051656702485

AlまたはAl合金製真空チャンバ部材

発明者： 柳川 政洋 ,  久本 淳 ,  和田 浩司 ,  池田 貢基
出願人/特許権者： 株式会社神戸製鋼所
代理人 (1件)： 植木 久一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-068232
公開番号（公開出願番号）：特開平8-193295
出願日： 1995年03月27日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：

【要約】【目的】 CVD装置,PVD装置,ドライエッチング装置などに用いられるAlまたはAl合金製真空チャンバ部材であって、真空チャンバ内に導入される腐食性のガスやプラズマに対して優れた耐食性を発揮するAlまたはAl合金製真空チャンバ部材を提供する。【構成】 表面に開口したポアを多数有するポーラス層とポアのないバリア層からなる陽極酸化皮膜を有し、上記ポーラス層のポア径を表面側で小さく、基材側で大きくしてなるAlまたはAl合金製真空チャンバ部材である。尚、上記ポーラス層のポア径を表面側で小さく、基材側で大きく形成された陽極酸化皮膜は、ポーラス層のポア径が深さ方向の任意区間で連続的変化部を有していてもよく、また非連続的変化部を有していてもよい。さらにポーラス層のポア径が深さ方向の任意区間で非変化部を有しているものであってもよい。

請求項（抜粋）：

表面に開口したポアを多数有するポーラス層とポアのないバリア層からなる陽極酸化皮膜を有し、上記ポーラス層のポア径を表面側で小さく、基材側で大きくしてなることを特徴とするAlまたはAl合金製真空チャンバ部材。

IPC (3件)：

C25D 11/04 302 ,  C23C 14/00 ,  C23C 16/44

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 真空処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-302486   出願人：東京エレクトロン山梨株式会社
• 特開平4-206619
  
• 特公平5-053870
  
• 特開昭60-197896