特許
J-GLOBAL ID:200903051663205128
脱硝触媒製造用スラリー、そのスラリーを用いた脱硝触媒の製造方法およびその方法により製造された脱硝触媒
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
日比 紀彦
, 岸本 瑛之助
, 渡邊 彰
, 松村 直都
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-142924
公開番号(公開出願番号):特開2008-296100
出願日: 2007年05月30日
公開日(公表日): 2008年12月11日
要約:
【課題】特定の金属を含むスラリーにハニカム基材を浸漬する工程を経て脱硝触媒を製造する際に用いられるスラリーであって、時間が経過してもその粘度が高くならず、安定した脱硝触媒の製造に用いられ得るスラリー、そのスラリーを用いた脱硝触媒の製造方法およびその製造方法を用いて製造された脱硝触媒を提供する。【解決手段】シリカゾルと、チタニア粒子と、メタバナジン酸アンモニウムおよび/またはメタタングステン酸アンモニウムとを含む脱硝触媒製造用スラリーであって、アンモニア水溶液によりそのpHが3.5〜6.0に調整されていることを特徴とする。【選択図】なし
請求項(抜粋):
シリカゾルと、チタニア粒子と、メタバナジン酸アンモニウムおよび/またはメタタングステン酸アンモニウムとを含む脱硝触媒製造用スラリーであって、
アンモニア水溶液によりそのpHが3.5〜6.0に調整されていることを特徴とするスラリー。
IPC (5件):
B01J 37/02
, B01D 53/94
, B01J 23/30
, B01J 35/04
, B01J 35/06
FI (5件):
B01J37/02 301C
, B01D53/36 102D
, B01J23/30 A
, B01J35/04 301P
, B01J35/06 D
Fターム (43件):
4D048AA06
, 4D048BA06X
, 4D048BA07X
, 4D048BA10X
, 4D048BA23X
, 4D048BA27X
, 4D048BA41X
, 4D048BB02
, 4D048BB08
, 4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169BA02A
, 4G169BA02B
, 4G169BA04A
, 4G169BA04B
, 4G169BA13B
, 4G169BA26C
, 4G169BB01C
, 4G169BC54A
, 4G169BC54B
, 4G169BC54C
, 4G169BC60A
, 4G169BC60B
, 4G169BC60C
, 4G169BD01C
, 4G169BD06C
, 4G169BE17C
, 4G169CA02
, 4G169CA13
, 4G169DA05
, 4G169EA13
, 4G169EA18
, 4G169EA21
, 4G169EE06
, 4G169FA01
, 4G169FA02
, 4G169FA03
, 4G169FB14
, 4G169FB15
, 4G169FB30
, 4G169FC02
, 4G169FC03
, 4G169FC09
引用特許: