特許

J-GLOBAL ID：200903051663683720

少なくとも1つのビームスプリッタと散乱光低減手段とを有する顕微鏡

発明者： アルブレヒト ヴァイス
出願人/特許権者： ライカ ミクロジュステムス ヴェツラー ゲーエムベーハー
代理人 (3件)： 加藤 朝道 ,  内田 潔人 ,  三宅 俊男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-175602
公開番号（公開出願番号）：特開2005-004221
出願日： 2004年06月14日
公開日（公表日）： 2005年01月06日
要約：

【課題】 とりわけ小型の構造形状を有し、同時に非常に良好な散乱光低減作用を有する散乱光低減手段を有する顕微鏡及びビームスプリッタユニットを提供すること。【解決手段】 顕微鏡ビーム路における少なくとも1つのビームスプリッタと、散乱光低減手段とを有する顕微鏡において、前記散乱光低減手段は、反射防止膜(7)が被着された(鏡面)研磨表面を有する黒色ガラスプレート(6)として構成されることを特徴とする。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

顕微鏡ビーム路における少なくとも1つのビームスプリッタと、散乱光低減手段とを有する顕微鏡において、 前記散乱光低減手段は、反射防止膜(7)が被着された研磨表面を有する黒色ガラスプレート(6)として構成されること を特徴とする顕微鏡。

IPC (1件)：

G02B21/06

FI (1件)：

G02B21/06

Fターム (6件)：

2H052AA01 ,  2H052AA09 ,  2H052AC04 ,  2H052AC07 ,  2H052AC27 ,  2H052AD34

引用特許：

出願人引用 (2件)

• DE 199 26 037 A1
  
• JP 2000-75207A