特許

J-GLOBAL ID：200903051676192327

シリコーン組成物およびその製造方法

発明者： 渡辺 純一郎 ,  上野 秀樹
出願人/特許権者： 東芝シリコーン株式会社
代理人 (1件)： 古谷 馨 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-001064
公開番号（公開出願番号）：特開平7-207160
出願日： 1994年01月11日
公開日（公表日）： 1995年08月08日
要約：

【要約】【目的】 金属の性質、すなわち熱伝導性、電気伝導性、電磁波・放射線吸収性を付与し、かつより均一性に優れたシリコーン組成物を提供する。【構成】 (A)平均単位式RaSiO(4-a)/2 (ここで、R は同種または異種の非置換または置換1価炭化水素基、a は1.90〜2.70の数)で示されるポリオルガノシロキサン 100重量部、(B) 微粉末充填剤2〜1000重量部、(C) 融点が(A) の熱分解温度以下で、常温で固体状の低融点金属あるいは合金5〜1000重量部とからなるシリコーン組成物。

請求項（抜粋）：

(A) 平均単位式RaSiO(4-a)/2(ここで、R は同種または異種の非置換または置換1価炭化水素基、a は1.90〜2.70の数)で示されるポリオルガノシロキサン 100重量部(B) 微粉末充填剤2〜1000重量部(C) 融点が(A) の熱分解温度以下で、常温で固体状の低融点金属あるいは合金5〜1000重量部とからなるシリコーン組成物。

IPC (3件)：

C08L 83/04 LRX ,  C08K 3/08 ,  C08K 3/36