特許
J-GLOBAL ID：200903051676417884
パターン印刷法とそれに用いるパターン印刷機
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松田 正道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-078054
公開番号（公開出願番号）：特開平6-286106
出願日： 1993年04月05日
公開日（公表日）： 1994年10月11日
要約：
【要約】【目的】 配線ピッチが狭く、かつ100ミクロン幅以下の微細厚膜配線を、品質良く、かつ量産性良く印刷でき、さらに、凹凸面上への印刷やセラミック多層基板製造等の印刷コストの低減が可能なパターン印刷機を提供すること。【構成】 ロータリースクリーン版1と、最表面層が溶剤吸収性と離型性とを有する弾性体からなるシリコンゴム転写ローラ2と、転写ローラ2を加熱する加熱ローラ3と、転写ローラ2を冷却する冷却ローラ4とを備え、転写ローラ2上に一旦インキ7を印刷した後、ベルト状の被印刷体9上にインキ7を転写するという構成により、連続的に量産製良く、微細厚膜パターンを印刷できる。
請求項（抜粋）：
ロータリースクリーン版と、最表面層が溶剤吸収性と離型性とを有する弾性体からなる転写ローラとを接触させて、前記転写ローラ上に前記ロータリースクリーン版によりインキを印刷した後、前記転写体から被印刷体上に前記インキを転写することを特徴とするパターン印刷法。
IPC (4件)：
B41F 15/08 303
, B41M 1/00
, B41M 1/12
, H05K 3/12
