特許

J-GLOBAL ID：200903051702703629

疎水性沈降シリカの製造方法

発明者： 吉田 武男
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 岩見谷 周志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-110967
公開番号（公開出願番号）：特開2001-294775
出願日： 2000年04月12日
公開日（公表日）： 2001年10月23日
要約：

【要約】【課題】疎水性沈降シリカを一工程で得ることができる、生産性の高い疎水性沈降シリカ製造方法を提供する。【解決手段】水ガラスの水溶液と、(a)無機酸、並びに(b)オルガノクロロシラン、及び/又はオルガノクロロジシランからなる有機ケイ素化合物を含有する混合溶液とを滴下などの方法により徐々に接触させ、得られる反応混合液のpHを最終的に7以下に調整して疎水性沈降シリカを生成せしめる疎水性沈降シリカの製造方法。

請求項（抜粋）：

水ガラスの水溶液と、(a)無機酸、並びに(b)一般式(1):R1aSiCl(4-a) (1)(式中、R1は置換または非置換の炭素原子数1〜12の一価の炭化水素基を表し、aは1〜3の整数である。)によリ表されるオルガノクロロシラン、及び一般式(2):R2bCl(6-b)Si2 (2)(式中、R2は置換または非置換の炭素原子数1〜12の一価の炭化水素基を表し、bは2〜4の整数である。)により表されるオルガノクロロジシランからなる群から選ばれる有機ケイ素化合物を含有する混合溶液とを接触させ、得られる反応混合液のpHを最終的に7以下に調整して反応を進行させ、疎水性沈降シリカを生成せしめる工程を有する疎水性沈降シリカの製造方法。

IPC (3件)：

C09C 1/28 ,  C01B 33/18 ,  C09C 3/12

FI (3件)：

C09C 1/28 ,  C01B 33/18 C ,  C09C 3/12

Fターム (22件)：

4G072AA25 ,  4G072CC14 ,  4G072EE01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH21 ,  4G072HH28 ,  4G072JJ15 ,  4G072KK01 ,  4G072MM02 ,  4G072MM21 ,  4G072QQ07 ,  4G072UU07 ,  4J037AA18 ,  4J037CA10 ,  4J037CA14 ,  4J037CA23 ,  4J037DD05 ,  4J037DD07 ,  4J037EE29 ,  4J037EE33 ,  4J037EE35 ,  4J037FF30

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭64-062329