特許

J-GLOBAL ID：200903051712893698

面位置検出装置

発明者： 水谷 英夫
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-311758
公開番号（公開出願番号）：特開平5-129182
出願日： 1991年10月30日
公開日（公表日）： 1993年05月25日
要約：

【要約】【目的】 簡単な光学系で広い露光領域の上下方向の位置の分布を同時に検出できるようにする。【構成】 回折格子形成面8aのパターンの像をレンズ9及び10よりなる投射光学系を介して被検面1a上に結像し、被検面1a上の像の更なる像をレンズ11及び12よりなる集光光学系を介して回折格子形成面13a上に再結像する。その回折格子形成面8a及び被検面1aがその照射光学系の主平面に関してシャインプルーフの条件を満たし、且つその被検面1a及び回折格子形成面13aがその集光光学系の主平面に関してシャインプルーフの条件を満たすようにした。

請求項（抜粋）：

第1面上に形成された所定形状のパターンと、被検面に対して斜めの方向から前記所定形状のパターンの像を投射する投射光学系と、該被検面で反射された光束を受光して前記所定形状のパターンの像を第2面上に再結像する集光光学系と、前記第2面上に再結像された像の位置を検出する検出手段とを有し、前記第1面及び前記被検面が前記投射光学系の主平面に関してシャインプルーフの条件を満たし、且つ前記被検面及び前記第2面が前記集光光学系の主平面に関してシャインプルーフの条件を満たすようにした事を特徴とする面位置検出装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-246411
  
• 特開平1-303721
  
• 特開平1-253603