特許

J-GLOBAL ID：200903051728238169

塗布装置および塗布方法

発明者： 飛沢 誠一
出願人/特許権者： コニカ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-026110
公開番号（公開出願番号）：特開2000-225368
出願日： 1999年02月03日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：

【要約】【課題】 バックロールで支持体を保持して、押し出しコータで塗布する場合に、塗布膜厚を高精度に均一に保つための塗布装置および塗布方法を提供する。【解決手段】 バックロールで保持された支持体上に、コータのスリットから吐出された塗布液を塗布する塗布装置において、?@前記バックロールの表面における変動が±5μm以内である、?A前記バックロールの回転中に、前記バックロールの表面を清掃する手段を有する、?B前記塗布前の支持体を前記バックロールに密着させるためのニップロールを有する、?C前記バックロールが多孔質であって、前記バックロール内部より前記バックロール表面の空気を吸引サクション手段を有する、または?D前記バックロールの表面の回転方向に深さ100μm以上の溝が複数切られており、前記溝の総面積が前記バックロールの表面面積に対して10〜50%であることを特徴とする塗布装置および塗布製造方法。

請求項（抜粋）：

バックロールで保持された状態で連続的に搬送される支持体上に、コータのスリットから吐出された塗布液を塗布する塗布装置において、前記バックロールの表面における変動が±5μm以内であることを特徴とする塗布装置。

IPC (4件)：

B05C 5/02 ,  G03C 1/498 ,  G03C 1/74 ,  B05C 1/04

FI (4件)：

B05C 5/02 ,  G03C 1/498 ,  G03C 1/74 ,  B05C 1/04

Fターム (12件)：

2H023EA01 ,  2H023EA02 ,  2H023EA03 ,  2H123BC00 ,  2H123BC01 ,  4F040AA22 ,  4F040AC01 ,  4F040BA29 ,  4F040CB16 ,  4F041AA12 ,  4F041CA02 ,  4F041CA22