枚葉式表面洗浄方法及び装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-055354
公開番号（公開出願番号）：特開平11-260778
出願日： 1998年03月06日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：

【要約】【課題】洗浄液に対して耐性を有さない超音波振動板を用いても洗浄液に超音波を印加することができる枚葉式表面洗浄方法及び装置を提供すること。【解決手段】ウェーハWの表面に洗浄液ノズル19から洗浄液を供給すると同時に、その裏面に超音波供給ノズル21から超純水に超音波を印加した超音波印加液Tを供給し、ウェーハ表面の洗浄液に、ウェーハWを透過した超音波を印加する。これにより、洗浄効果を高めながら、洗浄液に対して耐性を有さない超音波振動板を用いても、洗浄液に超音波を印加することができ、装置コストの低減を図ることができる。

請求項（抜粋）：

半導体基板を一枚ずつ回転させながら、前記半導体基板の表面に洗浄液を供給し、当該表面を洗浄するようにした枚葉式表面洗浄方法において、前記半導体基板の表面に前記洗浄液を供給すると同時に、前記半導体基板の裏面に、超音波が印加された超音波印加液を供給することにより、前記半導体基板の表面へ透過した前記超音波を前記洗浄液に印加して、前記半導体基板の表面を洗浄するようにしたことを特徴とする枚葉式表面洗浄方法。

IPC (2件)：

H01L 21/304 643 , H01L 21/304

FI (2件)：

H01L 21/304 643 A , H01L 21/304 643 D

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭63-305517
特開昭63-305517

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