特許
J-GLOBAL ID：200903051733267029

液処理装置および液処理方法

発明者：
天井 勝

天井 勝 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-137244
公開番号（公開出願番号）：特開2003-332284
出願日： 2002年05月13日
公開日（公表日）： 2003年11月21日
要約：
【要約】【課題】 液処理ムラの発生を抑える液処理装置および液処理方法を提供する。【解決手段】 洗浄処理装置1は、回転プレート61と、回転プレート61を回転させるモータ66と、ウエハWを支持する支持ピン64aと、ウエハWを保持する保持ピン64bと、ウエハWに洗浄液を供給する薬液供給ノズル51を有する。保持ピン64bは、鉛直方向の枢軸86回りに回転自在であって枢軸86回りの回転によってウエハWを保持する形態が変化する保持部材85と、保持部材85を位置決めする位置調節機構110と、枢軸86をロックするロック機構88とを有する。ウエハWの回転数に応じて保持部材85によるウエハWの保持形態を変化させ、処理ムラの発生を抑制する。
請求項（抜粋）：
基板に処理液を供給して液処理を行う液処理装置であって、略水平姿勢に保持されたプレート部材と、前記プレート部材を回転させる回転機構と、前記プレート部材の周縁に配置され、基板を略水平姿勢で支持する支持手段と、前記プレート部材の周縁に配置され、基板を略水平姿勢で保持する保持手段と、前記支持手段に支持されまたは前記保持手段に保持された基板に処理液を供給する処理液供給機構と、を具備し、前記保持手段は、鉛直方向に延在する枢軸と、前記枢軸の回転中心と偏心するように前記枢軸の上端に固定され、前記枢軸を所定角度回転させることによって、基板を保持するポジションと基板から離隔するポジションを選択可能な基板保持部と、前記枢軸を所定角度回転させて前記基板保持部の位置決めを行う位置調節機構と、を有することを特徴とする液処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 643 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/68
FI (3件)：
H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/68 N ,  H01L 21/30 572 B
Fターム (36件)：
5F031CA02 ,  5F031DA08 ,  5F031EA14 ,  5F031FA01 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA02 ,  5F031GA04 ,  5F031GA46 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031HA09 ,  5F031HA12 ,  5F031HA24 ,  5F031HA27 ,  5F031HA29 ,  5F031HA48 ,  5F031HA59 ,  5F031JA13 ,  5F031JA23 ,  5F031JA43 ,  5F031LA11 ,  5F031LA13 ,  5F031LA15 ,  5F031MA02 ,  5F031MA04 ,  5F031MA23 ,  5F031MA30 ,  5F031NA02 ,  5F031NA09 ,  5F031NA10 ,  5F031NA16 ,  5F031NA17 ,  5F031PA24 ,  5F046MA18
引用特許：
審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM