特許

J-GLOBAL ID：200903051736750634

描画装置

発明者： 大野 英明 ,  小林 義則 ,  大島 道夫 ,  飯塚 隆之
出願人/特許権者： 旭光学工業株式会社
代理人 (1件)： 西脇 民雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-239360
公開番号（公開出願番号）：特開平5-080525
出願日： 1991年09月19日
公開日（公表日）： 1993年04月02日
要約：

【要約】【目的】 ステージの移動誤差等に起因するビームスポットの位置ズレをより高い精度で補正することができ、高精度の描画が可能な描画装置を提供することを目的とする。【構成】 感光材料20が載置されるステージ30と、ステージ30を少なくとも1軸方向に駆動するサーボモータ41及びボールスクリュー42と、感光材料20に描画用のビームスポットを形成する描画光学系10と、ステージ30の移動誤差を検出する偏差カウンタ44と、描画光学系10内に設けられ、偏差カウンタ44からの誤差信号に対応して誤差によるスポットの位置ズレを補正するようスポットを移動させる補正手段50とを備えることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

描画対象物が載置されるステージと、該ステージを少なくとも1軸方向に駆動する駆動手段と、前記描画対象物に描画用のビームスポットを形成する描画光学系と、前記ステージの移動誤差を検出する検出手段と、前記描画光学系内に設けられ、前記検出手段からの誤差信号に対応して該誤差による前記スポットの位置ズレを補正するよう前記スポットを移動させる補正手段とを備えることを特徴とする描画装置。

IPC (2件)：

G03F 7/20 505 ,  G02B 26/10

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭64-063918
  
• 特開昭62-201414