シャドウマスクの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-185841
公開番号（公開出願番号）：特開平9-035659
出願日： 1995年07月21日
公開日（公表日）： 1997年02月07日
要約：

【要約】【課題】フォトエッチング法を用いたシャドウマスクの製造方法において、シャドウマスク各部位の開口の径を一定とし、得られるシャドウマスクに孔径不良の開口が生じないシャドウマスクの製造方法を提供しようとするものである。【解決手段】フォトエッチング法を用いたシャドウマスクの製造方法において、パターン露光に用いる小孔パターンマスクの小孔パターンの大きさを、シャドウマスク中心部からシャドウマスク周辺部位に向うにつれて大孔パターンに施されるオフセット量に応じて、逐次大きくしたことを特徴とするシャドウマスクの製造方法。

請求項（抜粋）：

両面に感光性樹脂層を形成した板状のシャドウマスク金属素材の片方の面に、小孔の遮光パターンを有する小孔パターンマスクを、かつ、前記シャドウマスク金属素材のもう一方の片面に、大孔の遮光パターンを有する大孔パターンマスクをそれぞれ介してパターン露光を行う工程と、前記シャドウマスク金属素材に現像、硬膜処理を行い、両面に所定パターンに従って一部金属面を露出させているレジスト膜を形成する工程と、前記シャドウマスク金属素材をエッチングして、シャドウマスク金属素材を貫通する開口を形成するエッチング工程と、前記レジスト膜を除去する剥膜工程とを少なくとも有するシャドウマスクの製造方法において、前記小孔パターンマスクの小孔パターンの大きさを、シャドウマスク中心部からシャドウマスク周辺部位に向けて大孔パターンに施される小孔パターンとのオフセット量に応じて、逐次大きくしたことを特徴とするシャドウマスクの製造方法。

IPC (2件)：

H01J 29/07 , H01J 9/14

FI (2件)：

H01J 29/07 Z , H01J 9/14 G

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平4-087235
シヤドウマスク製作用原版
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-302228 出願人：株式会社東芝
特開平1-191790

全件表示

前のページに戻る