特許

J-GLOBAL ID：200903051771999017

ダイヤモンド膜の合成方法及び装置

発明者： 井谷 司 ,  栗原 和明 ,  佐々木 謙一
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 北野 好人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-027741
公開番号（公開出願番号）：特開平9-221391
出願日： 1996年02月15日
公開日（公表日）： 1997年08月26日
要約：

【要約】【課題】 気相においてダイヤモンド膜を合成するダイヤモンド膜の合成方法及び装置に関し、下地基板との密着性が高いダイヤモンド膜を合成できるダイヤモンド膜の合成方法及び装置を提供する。【解決手段】 プラズマを利用した気相合成法によりダイヤモンド膜を合成するダイヤモンド膜の合成方法において、プラズマを利用したダイヤモンド膜の合成の際に、成膜室10内に設けられた蒸着源28をそのプラズマ中の荷電粒子によりスパッタし、蒸着源28を構成する物質が混入したダイヤモンド膜を基板18上に堆積する。

請求項（抜粋）：

プラズマを利用した気相合成法によりダイヤモンド膜を合成するダイヤモンド膜の合成方法において、プラズマを利用したダイヤモンド膜の合成の際に、成膜室内に設けられた蒸着源を前記プラズマ中の荷電粒子によりスパッタし、前記蒸着源を構成する物質が混入したダイヤモンド膜を被形成面上に堆積することを特徴とするダイヤモンド膜の合成方法。

IPC (5件)：

C30B 29/04 ,  C23C 14/06 ,  C23C 14/34 ,  C23C 16/26 ,  C23C 16/50

FI (5件)：

C30B 29/04 M ,  C23C 14/06 ,  C23C 14/34 N ,  C23C 16/26 ,  C23C 16/50