特許

J-GLOBAL ID：200903051775570678

アルコール-シリコン直接合成溶媒類から溶解したシリケート類の除去

発明者： ケンリック・マーチン・ルイス ,  フア・ユ ,  レジーナ・エヌ・イング
出願人/特許権者： シ-ケイ・ウイトコ・コーポレーション
代理人 (1件)： 社本 一夫 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-098800
公開番号（公開出願番号）：特開2000-290282
出願日： 1999年04月06日
公開日（公表日）： 2000年10月17日
要約：

【要約】 (修正有)【解決手段】 アルコキシシラン類のスラリー相直接合成で使用した溶媒から溶解したシラン類、シリコーン類およびシリケート類を、ギ酸のようなカルボン酸を加え、濾過可能な沈殿物および再使用できる溶媒を形成することにより除去する。得られた溶媒は、それにより修復され、直接合成プロセスに再使用するのに適している。【効果】修復した溶媒を用いて発泡が減少しシリコン変換速度はより速い。沈殿物は容易に濾過され溶媒に無視しうる量しか残らない。

請求項（抜粋）：

溶解したシリコン化合物を含有する使用済み溶媒の修復方法であって、当該方法は:当該使用済み溶媒と、溶解したシリコン化合物類を固体シリケート類および/またはシリカに変換する反応を行うのに足る量のカルボン酸とを接触させ、次いで、当該溶媒を変換された固体シリケート類および/またはシリカから分離する、前記溶解したシリコン化合物を含有する使用済み溶媒の修復方法。

IPC (2件)：

C07F 7/04 ,  C07B 63/00

FI (2件)：

C07F 7/04 H ,  C07B 63/00 D

Fターム (21件)：

4H006AA02 ,  4H006AB80 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ21 ,  4H049VQ31 ,  4H049VR11 ,  4H049VR43 ,  4H049VR44 ,  4H049VS21 ,  4H049VS99 ,  4H049VT40 ,  4H049VT43 ,  4H049VT44 ,  4H049VV02 ,  4H049VV06 ,  4H049VW01 ,  4H049VW02 ,  4H049VW06 ,  4H049VW08 ,  4H049VW13