基板処理装置および基板処理方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福島祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-025360
公開番号（公開出願番号）：特開2007-208021
出願日： 2006年02月02日
公開日（公表日）： 2007年08月16日
要約：

【課題】基板の汚染を防止することができる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。【解決手段】基板処理装置500は、インターフェースブロック15を備える。インターフェースブロック15に隣接するように露光装置16が配置される。インターフェースブロック15は、第1および第2の洗浄/乾燥処理ユニットSD1,SD2を含む。第1の洗浄/乾燥処理ユニットSD1において、露光処理前の基板Wの洗浄および乾燥処理が行われ、第2の洗浄/乾燥処理ユニットSD2において、露光処理後の基板Wの洗浄および乾燥処理が行われる。第1および第2の洗浄/乾燥処理ユニットSD1,SD2においては、基板の表面に対する接触角が小さいリンス液が用いられる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

液浸露光装置による露光処理前または/および露光処理後の基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、前記露光処理前に基板に感光性膜を形成する感光性膜形成ユニットと、前記感光性膜形成ユニットによる感光性膜の形成後であって前記露光処理前または前記露光処理後に基板の洗浄処理および乾燥処理を行う洗浄/乾燥処理ユニットとを備え、前記洗浄処理時に用いられるリンス液の基板の表面に対する接触角は、前記液浸露光装置において用いられる液体の基板の表面に対する接触角よりも小さいことを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/38

FI (3件)：

H01L21/30 569E , H01L21/30 515D , G03F7/38 511

Fターム (9件)：

2H096AA25 , 2H096AA27 , 2H096AA28 , 2H096DA04 , 2H096FA05 , 5F046AA17 , 5F046CB01 , 5F046LA12 , 5F046LA18

引用特許：

出願人引用 (2件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-129817 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
国際公開第99/49504号パンフレット

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