特許
J-GLOBAL ID：200903051777435425
反射型マスクの作製方法と製造装置およびこれを用いた反射型マスク、該反射型マスクを用いた露光装置と半導体デバイス
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-031711
公開番号（公開出願番号）：特開平7-240363
出願日： 1994年03月02日
公開日（公表日）： 1995年09月12日
要約：
【要約】【目的】 外形的な欠陥を有する基板であっても、ウエハ製造に問題が生じない反射型マスクを製造する方法および装置を実現すること。【構成】 反射部と非反射部からなるパターンを有する反射型マスクであって、マスク基板の欠陥部に非反射部が位置するようにパターン形成されていることを特徴とする
請求項（抜粋）：
反射部と非反射部からなるパターンを有する反射型マスクであって、マスク基板の欠陥部に非反射部が位置するようにパターン形成されていることを特徴とする反射型マスク。
IPC (2件)：
引用特許：
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