特許
J-GLOBAL ID：200903051780904592
フオトマスク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田辺 恵基
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-313635
公開番号（公開出願番号）：特開平5-127364
出願日： 1991年10月30日
公開日（公表日）： 1993年05月25日
要約：
【要約】【目的】本発明は、フオトマスクに関し、例えば縮小投影装置を用いて半導体回路パターンを基板上に転写する場合のフオトマスクにおいて、透明部材でアライメントマークを形成した場合でも、不透明部材で形成した場合と同様に、簡易にアライメントマークの位置を検出し得るようにする。【構成】本発明は、透明部材の境界で発生する散乱光、回折光を利用してアライメントマークの位置を検出し得るようにすることにより、不透明部材で形成した場合と同様に、簡易にアライメントマークの位置を検出し得る。
請求項（抜粋）：
アライメントマークを基準にして位置合わせし得るようになされ、投影光学系を介して感応基板に幾何学的なパターンを転写するために使用されるフオトマスクにおいて、上記アライメントマークは、第1の透明部分と、上記第1の透明部分を透過する透過光に対して略(2n+1)π(但しnは整数)だけ位相のずれた透過光を射出する第2の透明部分とを有し、上記第1及び第2の透明部分の境界で発生する散乱光及び又は回折光を利用して、載置位置を検出し得るようにしたことを特徴とするフオトマスク。
IPC (2件)：
引用特許：
前のページに戻る
