特許
J-GLOBAL ID：200903051797896151
マスクまたはウェハー用寸法検査装置による欠陥計測方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
坂本 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-307521
公開番号（公開出願番号）：特開平6-129843
出願日： 1992年10月21日
公開日（公表日）： 1994年05月13日
要約：
【要約】【目的】 マスクまたはウェハー用寸法検査装置により欠陥の寸法等の計測を行なう場合に、欠陥位置を自動検索できるようにして省力化を図る。【構成】 欠陥寸法の検査を行なう時は、まず欠陥検査装置110で欠陥を自動的に探し出し、その位置情報を出力する。外部コンピュータ114はこの位置情報を入力して寸法検査装置112の座標系の位置情報に変換して出力する。寸法検査装置112は、この変換された位置情報を入力して欠陥位置を自動検索し、欠陥寸法等の計測を行なう。欠陥位置を自動検索できるので手間と時間を省ける。
請求項（抜粋）：
欠陥検査装置にてマスクまたはウェハー上の欠陥位置を計測し、その位置情報を外部コンピュータにて寸法検査装置の座標に変換し、この座標変換された欠陥位置情報を当該寸法検査装置に入力して、前記欠陥位置を自動検索して欠陥計測を行なうことを特徴とするマスクまたはウェハー用寸法検査装置による欠陥計測方法。
IPC (2件)：
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