特許
J-GLOBAL ID：200903051799993219

テトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)及び置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)の合成方法

発明者：
永田 寛

永田 寛 について

, 
郷 義幸

郷 義幸 について


出願人/特許権者：
住友ベークライト株式会社

住友ベークライト株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-076942
公開番号（公開出願番号）：特開2001-261684
出願日： 2000年03月17日
公開日（公表日）： 2001年09月26日
要約：
【要約】【課題】 合成における有機溶媒への溶解性に優れ、有害物質の発生及びイオン性不純物の残存もなく、安定性に優れた置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)の合成法を提供する。【課題手段】 テトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)が、三ハロゲン化ホウ素(A)と、アミン又はアミジン類とカルボン酸との塩(B)とを反応させて得られることを特徴とするテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)の合成方法。
請求項（抜粋）：
一般式(1)で表されるテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)が、一般式(2)で表される三ハロゲン化ホウ素(A)と、一般式(3)で表されるアミン又はアミジン類と一般式(4)で表されるカルボン酸との塩(B)とを反応させて得られることを特徴とするテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)の合成方法。【化1】(R1、R2、R3は、アルキル基、アリール基又はR1、R2、R3の3個の置換基の内、少なくとも2個が環を形成する置換基。置換基R4は、アルキル基、アリール基、アラルキル基から選ばれる基)【化2】(Xは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素から選ばれるハロゲン原子)【化3】(R1、R2、R3は、アルキル基、アリール基又はR1、R2、R3の3個の置換基の内、少なくとも2個が環を形成する置換基)【化4】(置換基R4は、アルキル基、アリール基、アラルキル基から選ばれる基)
IPC (2件)：
C07F 5/04 ,  C08G 59/40
FI (2件)：
C07F 5/04 Z ,  C08G 59/40
Fターム (12件)：
4H048AA02 ,  4H048AC90 ,  4H048AD15 ,  4H048AD17 ,  4H048BB14 ,  4H048BB31 ,  4H048BB41 ,  4H048BE56 ,  4J036AA01 ,  4J036GA06 ,  4J036GA21 ,  4J036JA07
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 樹脂組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-340126   出願人：住友ベークライト株式会社
  • リン系潜伏性触媒の合成法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-012488   出願人：住友ベークライト株式会社
審査官引用 (2件)
  • 樹脂組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-340126   出願人：住友ベークライト株式会社
  • リン系潜伏性触媒の合成法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-012488   出願人：住友ベークライト株式会社

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