特許

J-GLOBAL ID：200903051800318806

噴霧洗浄方法及び装置

発明者： 足立 實男 ,  野口 尋之 ,  松本 秀次 ,  伊澤 正光
出願人/特許権者： 足立 實男 ,  野口 尋之 ,  松本 秀次 ,  伊澤 正光
代理人 (1件)： 安藤 惇逸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-038486
公開番号（公開出願番号）：特開平10-216653
出願日： 1997年02月05日
公開日（公表日）： 1998年08月18日
要約：

【要約】【課題】 少ない水量で短時間に優れた洗浄効果が得られる噴霧洗浄方法及び装置を提供すること。【解決手段】 静電場処理水7を被洗浄物2表面に噴霧することを特徴とする噴霧洗浄方法であり、これを実施するための被洗浄物2を案内する通路3を内部に備えた洗浄槽1と、洗浄槽1にその通路3に沿って通路3側面と対向するように配置された噴霧ノズル4と、噴霧ノズル4に静電場処理水7を供給する給水槽6及びポンプ5(給水手段)と、噴霧ノズル4に供給された静電場処理水7を噴霧ノズル4から噴霧させるエアコンプレッサー9(噴霧手段)とから構成される。

請求項（抜粋）：

静電場処理水を被洗浄物表面に噴霧することを特徴とする噴霧洗浄方法。

IPC (3件)：

B08B 3/02 ,  B08B 3/08 ,  C23G 3/00

FI (3件)：

B08B 3/02 A ,  B08B 3/08 Z ,  C23G 3/00 A