特許
J-GLOBAL ID:200903051801822389

イットリア安定化ジルコニア被膜のプラズマ溶射法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 萩原 亮一 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-145962
公開番号(公開出願番号):特開平11-335804
出願日: 1998年05月27日
公開日(公表日): 1999年12月07日
要約:
【要約】【課題】 密着強度、曲げ強度が大きく、しかもヤング率が低く耐熱衝撃性に優れたYSZ溶射被膜を形成することができるYSZプラズマ溶射法に関する。【解決手段】 ?@イットリア安定化ジルコニア溶融粉砕粉末に中空形状のイットリア安定化ジルコニアガス噴霧粉末を5〜20体積%混合してなる原料粉末を母材にプラズマ溶射することを特徴とする密着強度、曲げ強度が大きく、しかもヤング率が低く、耐熱衝撃性に優れたイットリア安定化ジルコニア溶射被膜のプラズマ溶射法及び?Aイットリア安定化ジルコニア溶融粉砕粉末を母材に0.05〜0.1mm厚さにプラズマ溶射した後、中空形状のイットリア安定化ジルコニアガス噴霧粉末をプラズマ溶射することを特徴とする密着強度、曲げ強度が大きく、しかもヤング率が低く耐熱衝撃性に優れたイットリア安定化ジルコニア溶射被膜のプラズマ溶射法。
請求項(抜粋):
イットリア安定化ジルコニア溶融粉砕粉末に中空形状のイットリア安定化ジルコニアガス噴霧粉末を5〜20体積%混合してなる原料粉末を母材にプラズマ溶射することを特徴とする密着強度、曲げ強度が大きく、しかもヤング率が低く、耐熱衝撃性に優れたイットリア安定化ジルコニア溶射被膜のプラズマ溶射法。

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