特許

J-GLOBAL ID：200903051824925703

荷電ビーム描画データ作成装置

発明者： 上山 欣也 ,  森泉 幸一 ,  田岡 弘展
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-312269
公開番号（公開出願番号）：特開平10-154648
出願日： 1996年11月22日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：

【要約】【課題】 描画パターンの寸法精度劣化を効果的に抑制可能な荷電ビーム描画データ作成装置を提供する。【解決手段】 荷電ビーム描画データ作成装置1は、各図形処理領域の冗長領域を連結して形成された冗長部と、この冗長部の外周によって図形処理領域内に規定される内部領域とに分割する冗長部分割手段3を備える。この冗長部分割手段3によって上記の冗長部と内部領域とに設計レイアウトデータを分割し、各々の領域内で独立して重複除去処理を行なう。

請求項（抜粋）：

周囲に冗長領域を有する複数の図形処理領域を形成し、隣り合う前記図形処理領域同士が接し、かつ各々の前記図形処理領域の前記冗長領域が隣接する前記図形処理領域と重なるように設計レイアウトデータを分割する図形処理領域分割手段と、前記隣接する図形処理領域の冗長領域の外周によって前記図形処理領域内に規定される内部領域と、すべての前記冗長領域を連結した冗長部とに前記設計レイアウトデータを分割する冗長部分割手段と、前記内部領域内と前記冗長部内とで独立して図形データの重複を除去する重複除去手段と、前記冗長部内の前記図形データの前記図形処理領域間の境界での重複を除去する冗長部除去手段と、を備えた、荷電ビーム描画データ作成装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G06F 17/50

FI (5件)：

H01L 21/30 541 J ,  G03F 7/20 504 ,  G06F 15/60 658 M ,  H01L 21/30 541 C ,  H01L 21/30 541 Z