特許
J-GLOBAL ID：200903051839892330
高高温伸び電解銅箔の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
倉内 基弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-097025
公開番号（公開出願番号）：特開平7-278866
出願日： 1994年04月12日
公開日（公表日）： 1995年10月24日
要約：
【要約】【目的】 少なくとも3%の高温での伸びを有する高高温伸び電解銅箔を製造する技術を確立すること。【構成】 硫酸酸性銅電解液中のニカワ濃度をこれまで慣行的に使用されてきた量より少なく、0.5ppm以下、好ましくは0.01〜0.2ppm未満にする。併せて、電解液中の塩化物イオン濃度:20〜100ppm、電解液温度を20〜70°C、好ましくは40〜60°C及び硫酸濃度:20〜200g/l、好ましくは40〜120g/lの条件の一つもしくはそれらの組合せを併用することが好ましい。
請求項（抜粋）：
硫酸酸性硫酸銅溶液を電解液として電解銅箔を製造する方法において、前記電解液中のニカワ濃度を0.5ppm以下とすることを特徴とする高高温伸び電解銅箔の製造方法。
IPC (2件)：
C25D 1/04 311
, H05K 1/09
