特許

J-GLOBAL ID：200903051841963929

グレーズドAlN基板およびその製造方法

発明者： 豊田 誠司 ,  菅村 邦夫 ,  吉田 秀昭
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 安倍 逸郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-164738
公開番号（公開出願番号）：特開平7-068817
出願日： 1994年06月22日
公開日（公表日）： 1995年03月14日
要約：

【要約】【目的】 ガラス層の厚さに従属することなく、軟化点の高いガラス層の高温焼成を可能にしたグレーズドAlN基板を提供する。【構成】 AlN焼結体11を所定雰囲気中1300°Cで熱酸化を行い、20μmの厚さの表面酸化層12を形成する。Siアルコキシド、Ti等のアルコキシド溶液を用いたディップコート法により、表面酸化層12上に5.0μm厚のSiO2系層13を被着し、1100°Cにて焼成する。このSiO2系層13上に、スクリーン印刷法にて、SiO2-B2O3-PbO-Al2O3-ZnO等の組成のガラスペーストを印刷し、1300°Cにて焼成する。この焼成後のガラス層14の厚さは20μmである。

請求項（抜粋）：

AlN焼結体を準備する工程と、SiO2を主成分としてアルカリ土類金属の酸化物を含み、軟化点が1000°C以下のガラスのガラスペーストを準備する工程と、AlN焼結体の表面を酸化して0.2〜20μmの厚さの表面酸化層を形成する工程と、TiO2、ZrO2、および、ZnOから選ばれた酸化物を5〜50重量%含み、残りがSiO2からなる混合物であって、その厚さが0.1〜10μmのSiO2系層を、表面酸化層上に形成する工程と、このSiO2系層上の一部もしくは全体に、上記ガラスペーストを被着、焼成してガラス層を軟化させることによってグレーズドAlN基板を形成する工程とを含むグレーズドAlN基板の製造方法であって、上記ガラス層は、SiO2、Al2O3、B2O3、および、MOを含み、その組成比は、SiO2:Al2O3:B2O3:MO=30〜70重量%:10〜40重量%:1〜10重量%:10〜40重量%であり、上記MOは、MgO、CaO、SrO、BaO、ZnO、および、PbOの群から選ばれた酸化物であるグレーズドAlN基板の製造方法。

IPC (5件)：

B41J 2/335 ,  H01C 7/00 ,  H05K 1/03 ,  H01L 27/01 311 ,  H01L 49/00

FI (2件)：

B41J 3/20 111 C ,  B41J 3/20 111 H