特許

J-GLOBAL ID：200903051845332281

ポリオルガノシランの製造方法

発明者： 若松 茂 ,  壁田 桂次 ,  今井 高史
出願人/特許権者： 東芝シリコーン株式会社
代理人 (1件)： 津国 肇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-180578
公開番号（公開出願番号）：特開平7-033881
出願日： 1993年07月22日
公開日（公表日）： 1995年02月03日
要約：

【要約】【構成】 一般式:R1nSi2(OR2)6-n で示されるジシラン化合物を、一般式MOR3 で示される金属ヒドロカルビノラートの存在下で、ポリオルガノシランを形成するのに十分な時間反応させ、ついで一般式:R4mSiX4-m で示されるオルガノハロシランを反応させることを特徴とするポリオルガノシランの製造方法。【効果】 R1 、R4 を任意に選択することにより、単一容器内での一連の反応で、任意の有機基を有するポリオルガノシランを製造することができる。

請求項（抜粋）：

一般式:R1nSi2(OR2)6-n (I)(式中、R1 およびR2 はそれぞれ同一または相異なる置換もしくは非置換の1価の炭化水素基を表し、nは0〜5の整数を表す)で示されるジシラン化合物を、一般式:MOR3 (II)(式中、R3 は置換または非置換の1価の炭化水素基を表し、Mはアルカリ金属を表す)で示されるアルカリ金属ヒドロカルビノラートの存在下で、ポリオルガノシランを形成するのに十分な時間反応させ;ついで、この反応生成系に、一般式:R4mSiX4-m (III)(式中、R4 は同一または相異なる置換もしくは非置換の1価の炭化水素基またはヒドロカルビルオキシ基を表し;Xは同一または相異なるハロゲン原子を表し、mは1〜3の整数を表す)で示されるオルガノハロシランを反応させることを特徴とするR4 -Si基を有するポリオルガノシランの製造方法。