特許

J-GLOBAL ID：200903051861482293

パターン露光方法及び露光装置

発明者： 藤澤 忠仁 ,  田中 聡 ,  浅野 昌史 ,  井上 壮一
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-187463
公開番号（公開出願番号）：特開平10-032160
出願日： 1996年07月17日
公開日（公表日）： 1998年02月03日
要約：

【要約】【課題】 マスクの面内のパターンサイズの不均一性に伴う露光マージンの低下及び露光精度の低下を防止する。【解決手段】 マスク4に形成されたパターンを投影光学系5を介してレジストが塗布してあるウェハ6上に投影露光してレジストパターンを得る投影露光装置において、マスク4の任意位置のパターンに対応したレジストパターンを所望寸法に仕上げるための適正露光量を求め、この適正露光量のマスク面内データを入力するための露光量制御部8と、制御部8により入力されたマスクの面内における適正露光量分布データに従って、マスク4上に照射される露光量に変調を付加するための露光量調節部3とを備えた。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンをウェハ上のレジストに投影露光してレジストパターンを形成するパターン露光方法において、前記マスクの複数の位置毎に各位置のパターンに対応したレジストパターンを所望寸法に仕上げるための適正露光量を予め求めておき、該求められたマスクの各位置毎の適正露光量に応じて前記ウェハ上に照射される露光量を調節することを特徴とするパターン露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 516 D ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 E