特許

J-GLOBAL ID：200903051868346980

高速熱処理装置

発明者： 高木 庸司
出願人/特許権者： 東横化学株式会社
代理人 (1件)： 稲垣 仁義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-017413
公開番号（公開出願番号）：特開平8-191074
出願日： 1995年01月10日
公開日（公表日）： 1996年07月23日
要約：

【要約】【目的】この発明は、反応管内で処理基板をヒ-タで加熱しながら、熱処理する高速熱処理装置に於いて、ランプ加熱を使用せずに、高速でヒ-タを昇降温させることができる高速熱処理装置を提供することを目的とする。【構成】この発明に於いては、気密状態のケ-ス内に昇降温速度の速い材質で形成した抵抗加熱ヒ-タ6を内装し、該ケースの放射面を石英ガラス5で形成し、前記抵抗加熱ヒ-タの放射面と反対側には、反射板7を位置させてなるヒ-タ-ユニット17をヒ-タとして使用する。

請求項（抜粋）：

反応管内で処理基板をヒ-タで加熱しながら、熱処理する高速熱処理装置に於いて、気密状態のケ-ス内に昇降温速度の速い材質で形成した抵抗加熱ヒ-タを内装し、該ケースの放射面を石英ガラスで形成し、前記抵抗加熱ヒ-タの放射面と反対側には、反射板を位置させてなるヒ-タ-ユニットを、前記ヒ-タとして使用することを特徴とする高速熱処理装置。