特許
J-GLOBAL ID:200903051879982927
放射線像変換パネルの製造方法
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
柳川 泰男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-186213
公開番号(公開出願番号):特開2005-037377
出願日: 2004年06月24日
公開日(公表日): 2005年02月10日
要約:
【課題】 感度が向上した放射線像変換パネルの製造方法を提供する。【解決手段】 蒸着装置内にて、蛍光体もしくはその原料を含む蒸発源を加熱することによって発生する物質を基板上に蒸着させることにより蛍光体層を形成する工程を含む放射線像変換パネルの製法において、蒸着を、蒸着装置内に不活性ガスを下記式を満足する流量Vnで導入し、同時に該装置内を排気しながら実施する。 0.002 ≦ Vn/Vc ≦ 20[Vnは蒸着装置内に導入するガスの流量(mL/分)であり、Vcは蒸着装置の内容積(L)である]【選択図】 なし
請求項(抜粋):
蒸着装置内にて、蛍光体もしくはその原料を含む蒸発源を加熱することによって発生する物質を基板上に蒸着させることにより蛍光体層を形成する工程を含む放射線像変換パネルの製造方法において、該蒸着装置内に不活性ガスを下記式を満足する流量Vnで導入し、同時に該装置内を排気しながら蒸着を行うことを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。
IPC (5件):
G21K4/00
, C09K11/00
, C09K11/02
, C09K11/61
, C09K11/85
FI (5件):
G21K4/00 M
, C09K11/00 B
, C09K11/02 A
, C09K11/61
, C09K11/85
Fターム (67件):
2G083AA03
, 2G083BB01
, 2G083CC03
, 2G083DD02
, 2G083DD19
, 2G083DD20
, 2G083EE02
, 4H001CA04
, 4H001CA08
, 4H001XA03
, 4H001XA04
, 4H001XA09
, 4H001XA11
, 4H001XA12
, 4H001XA13
, 4H001XA17
, 4H001XA19
, 4H001XA20
, 4H001XA21
, 4H001XA28
, 4H001XA29
, 4H001XA30
, 4H001XA31
, 4H001XA35
, 4H001XA37
, 4H001XA38
, 4H001XA39
, 4H001XA48
, 4H001XA49
, 4H001XA53
, 4H001XA55
, 4H001XA56
, 4H001XA57
, 4H001XA58
, 4H001XA59
, 4H001XA60
, 4H001XA61
, 4H001XA62
, 4H001XA63
, 4H001XA64
, 4H001XA65
, 4H001XA66
, 4H001XA67
, 4H001XA68
, 4H001XA69
, 4H001XA70
, 4H001XA71
, 4H001YA11
, 4H001YA12
, 4H001YA29
, 4H001YA39
, 4H001YA47
, 4H001YA58
, 4H001YA59
, 4H001YA60
, 4H001YA62
, 4H001YA63
, 4H001YA64
, 4H001YA65
, 4H001YA66
, 4H001YA67
, 4H001YA68
, 4H001YA69
, 4H001YA70
, 4H001YA71
, 4H001YA81
, 4H001YA83
引用特許:
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