特許

J-GLOBAL ID：200903051901629527

プラズマ処理装置

発明者： 坂本 雄一 ,  多田 重和 ,  本多 祐二 ,  荒木 智幸
出願人/特許権者： ニチメン電子工研株式会社 ,  株式会社ユーテック
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-116823
公開番号（公開出願番号）：特開平11-307299
出願日： 1998年04月27日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：

【要約】【課題】真空容器内に設けられた高周波コイルから真空容器に高周波電流が流れるのを防止して、均一かつ不純物の混入の無い処理を被処理体に対して行うことができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】プラズマを使用して処理される被処理体が収容され、導電性材料で形成された真空容器10と、この容器中に処理ガスを供給する手段と、この真空容器内に配設され、前記処理ガスのプラズマを発生させる高周波コイル16と、この高周波コイルに高周波電流を供給する給電回路17とを有する。この給電回路は、整合回路20と、高周波コイルから真空容器に高周波電流が流れるのを防止するようにバラン回路21とを有する。

請求項（抜粋）：

プラズマを使用して処理される被処理体が収容され、少くとも一部が導電性材料で形成された真空容器と、この容器中に処理ガスを供給する手段と、この真空容器内に配設され、前記処理ガスのプラズマを発生させる高周波コイルと、この高周波コイルに高周波電流を供給する給電回路とを具備し、この給電回路は、高周波コイルから真空容器に高周波電流が流れるのを防止するようにバラン回路を有することを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (6件)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31

FI (6件)：

H05H 1/46 L ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/302 B