特許

J-GLOBAL ID：200903051908837630

基板位置検出方法

発明者： 秦野 弘
出願人/特許権者： 山武ハネウエル株式会社
代理人 (1件)： 堀 進 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-229982
公開番号（公開出願番号）：特開平6-074714
出願日： 1992年08月28日
公開日（公表日）： 1994年03月18日
要約：

【要約】【目的】 基板のパターンの印刷の状態如何にかかわらず、基板の位置を正しく検出する方法を提供する。【構成】 基準となるパターンを有する基板の2値画像から複数のパターンの輪郭を抽出し、その全長が所定の許容範囲に収まる輪郭を選出し、選出された輪郭の縦及び横の長さが所定の許容範囲に収まる輪郭を基準パターンとする。この基準パターンの輪郭の縦及び横を構成する画素の位置の加重平均をとることで縦及び横の重心位置を求め、これらの重心位置の中点を求めることにより基板の位置を検出する。

請求項（抜粋）：

基準となるパターンを有する基板の像を撮像して得られる画像から該基板の位置を検出する方法において、(a)前記撮像された基板の像を2値画像に変換し、(b)得られた2値画像から該基板上の複数のパターンの輪郭を抽出し、(c)抽出された各輪郭の全長を求め、その全長が所定の許容範囲に収まる輪郭を選出し、(d)選出された輪郭の縦及び横の長さを求め、それらの長さが所定の許容範囲に収まる輪郭を基準パターンとし、(e)該基準パターンの輪郭の縦及び横を構成する複数の画素の位置の加重平均をとることにより該輪郭の縦及び横の重心位置を求め、(f)該重心位置の中点を求めることにより前記基板の位置を検出することを特徴とする基板位置検出方法。

IPC (3件)：

G01B 11/00 ,  G06F 15/62 405 ,  H05K 13/04