特許

J-GLOBAL ID：200903051911026987

レジスト剥離液管理方法及びレジスト剥離装置

発明者： 定方 孝之 ,  佐藤 和明
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-236651
公開番号（公開出願番号）：特開平10-083946
出願日： 1996年09月06日
公開日（公表日）： 1998年03月31日
要約：

【要約】【課題】 硫酸と過酸化水素水の混液からなるフォトレジスト剥離液の継続使用期間を延伸する。【解決手段】 基板1を処理する剥離槽11と、過酸化水素水を剥離槽11に補充する補充手段13と、試験片4を処理する試験槽16と、剥離槽11から剥離液をサンプリングして試験槽16に移送するサンプリング手段17と、試験槽16内の炭酸ガス濃度を測定する炭酸ガスセンサ18と、その測定結果に基づいて剥離槽11への過酸化水素水の補充量を算定するとともに補充手段13の駆動を制御するコントローラ19とを有するレジスト剥離装置を使用し、基板1処理の合間毎に剥離槽11の剥離液をサンプリングしてこれにレジストを塗布した試験片4を浸漬し、試験槽16内の炭酸ガス濃度の測定値に基づいて適量の過酸化水素水を剥離槽11内の剥離液に補充して、剥離能力を維持する。

請求項（抜粋）：

過酸化水素水を含む混液からなるレジスト剥離液の管理方法であって、継続使用中の該剥離液を一定量サンプリングしてこれにフォトレジストを塗布した試験片を浸漬し、該試験片から発生する炭酸ガス量に対応する物理量を測定し、該測定結果から該剥離液の剥離能力を回復するに必要な過酸化水素水の補充量を算定し、該算定結果に従って該剥離液に過酸化水素水を補充することにより該剥離液の剥離能力を維持することを特徴とするレジスト剥離液管理方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/306

FI (3件)：

H01L 21/30 572 B ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/306 D