特許
J-GLOBAL ID：200903051929142461
シリコンウェハ表面の汚染金属元素の回収方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井内 龍二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-080776
公開番号（公開出願番号）：特開平5-283381
出願日： 1992年04月02日
公開日（公表日）： 1993年10月29日
要約：
【要約】【構成】シリコンウェハ13表面の汚染金属元素を回収する方法において、前記シリコンウェハ表面に付着している有機皮膜を硝酸蒸気あるいは王水蒸気により分解し、シリコンウェハ13表面の酸化皮膜をふっ化水素酸蒸気によって分解することにより、汚染金属元素を回収するシリコンウェハ13表面の汚染金属元素の回収方法。【効果】汚染金属元素を100%近い回収率で回収することができ、高い精度で汚染金属元素を定量分析することができる。
請求項（抜粋）：
シリコンウェハ表面の汚染金属元素を回収する方法において、前記シリコンウェハ表面に付着している有機皮膜を硝酸蒸気あるいは王水蒸気により分解し、前記シリコンウェハ表面の酸化皮膜をふっ化水素酸蒸気によって分解することにより、前記汚染金属元素を回収することを特徴とするシリコンウェハ表面の汚染金属元素の回収方法。
IPC (2件)：
H01L 21/302
, H01L 21/304 341
