特許
J-GLOBAL ID:200903051950663510
超短パルスレーザーによる材料加工方法、プリント配線板、及びその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (8件):
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 峰 隆司
, 福原 淑弘
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-155666
公開番号(公開出願番号):特開2004-351513
出願日: 2003年05月30日
公開日(公表日): 2004年12月16日
要約:
【課題】エッチング処理のような複雑な加工プロセスを使用することなく、ドロスやスミアの発生を伴わないサブμm精度の安定した孔の加工方法を得る。【解決手段】本発明の超短パルスレーザーによる材料加工方法においては、金属層2a、2bと有機材料層1とが積層されかつ複数層に亘って電子回路が形成された回路基板3に対してフェムト秒レーザー11を照射して、各層の電子回路を互いに接続する導体を配線するための孔5を形成する。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
有機材料に無機材料が混合された複合材料に対してフェムト秒レーザーを照射して、この複合材料に孔を形成することを特徴とする超短パルスレーザーによる材料加工方法。
IPC (3件):
B23K26/00
, B23K26/16
, H05K3/00
FI (3件):
B23K26/00 330
, B23K26/16
, H05K3/00 N
Fターム (4件):
4E068AF00
, 4E068CA01
, 4E068DA11
, 4E068DB14
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