現像装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森純一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-166905
公開番号（公開出願番号）：特開2000-133587
出願日： 1999年06月14日
公開日（公表日）： 2000年05月12日
要約：

【要約】【課題】従来の現像装置では、ウェハの外周に行くに従い吐出口から吐出される純粋な現像液にウェハ中心方向から流れ込んでくる反応の進んだ現像液が混合される量が増えるため、現像処理がばらつく、という課題がある。【解決手段】現像液供給ノズル42は、複数のエリア62a〜62eに分割されている。そして、各エリア62a〜62eの吐出口61から吐出される現像液がウェハWの回転中心付近に近づく従って少量になるようになっている。これにより、現像処理の均一化を図ることができる。

請求項（抜粋）：

回転される被処理体の表面に現像液を吐出する吐出口が列設されたノズルを有する現像装置であって、前記ノズルが複数のエリアに分割され、かつ、各エリアのうち前記被処理体の回転中心付近に対応するエリアの吐出口から他のエリアと比べて少量の現像液が吐出されることを特徴とする現像装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/30 501

FI (2件)：

H01L 21/30 569 C , G03F 7/30 501

引用特許：

審査官引用 (2件)

処理液吐出ノズルおよび基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-254456 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-199106 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社

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