特許
J-GLOBAL ID:200903051983866513

金属膜作製装置及び金属膜作製方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 光石 俊郎 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-027733
公開番号(公開出願番号):特開2003-226974
出願日: 2002年02月05日
公開日(公表日): 2003年08月15日
要約:
【要約】【課題】 成膜時間に対してCu膜を確実に増加させて成膜速度を速くする。【解決手段】 チャンバ内にハロゲンとしての塩素を含有する原料ガスを間欠的に供給した状態にしてエッチング粒子の相対的な増加を抑制して前駆体のCu成分を基板に成膜させ、成膜に寄与するプラズマ粒子が十分に存在する状態で原料ガスを供給し、また、エッチング粒子により成膜されたCu膜がエッチングされることがない状態で原料ガスを供給し、成膜時間に対してCu膜を確実に増加させて成膜速度を速くする。
請求項(抜粋):
基板が収容されるチャンバと、基板に対向する位置におけるチャンバに設けられる金属製の被エッチング部材と、ハロゲンを含有する原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、原料ガスプラズマを発生させ被エッチング部材をエッチングすることにより被エッチング部材に含まれる金属成分と原料ガスとの前駆体を生成するプラズマ発生手段と、基板側の温度を被エッチング部材側の温度よりも低くして前駆体の金属成分を基板に成膜させる温度制御手段と、原料ガスを間欠的に供給した状態にしてエッチング粒子の相対的な増加を抑制する制御手段とを備えたことを特徴とする金属膜作製装置。
IPC (2件):
C23C 16/448 ,  H01L 21/285
FI (2件):
C23C 16/448 ,  H01L 21/285 C
Fターム (21件):
4K030AA02 ,  4K030AA03 ,  4K030AA16 ,  4K030BA01 ,  4K030BA17 ,  4K030BA18 ,  4K030BA20 ,  4K030EA01 ,  4K030FA01 ,  4K030FA04 ,  4K030JA10 ,  4K030JA11 ,  4K030LA15 ,  4M104BB04 ,  4M104BB06 ,  4M104BB08 ,  4M104BB09 ,  4M104BB14 ,  4M104BB17 ,  4M104BB18 ,  4M104DD44
引用特許:
出願人引用 (1件)

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