特許
J-GLOBAL ID：200903051993018480
循環式乾燥装置および循環式乾燥方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-040598
公開番号（公開出願番号）：特開2003-240437
出願日： 2002年02月18日
公開日（公表日）： 2003年08月27日
要約：
【要約】【課題】 低コストで循環系内の揮発成分の濃度と酸素濃度を低く抑えることができ、排ガスによる環境負荷が少なく、工業的に非常に有利な循環式乾燥装置および循環式乾燥方法を提供する。【解決手段】 加熱器11と乾燥器12との間でガスを循環させながら、加熱器11で加熱されたガスによって乾燥器12内の揮発成分を含む乾燥対象物を乾燥する循環式乾燥装置であって、加熱器11と乾燥器12との間で循環しているガスの一部を抜き取る分岐流路25と、抜き取られたガスに含まれる揮発成分を分解または回収するガス処理装置16と、ガス処理装置16から排出されるガスを、加熱器11と乾燥器12との間で循環しているガスに戻す供給流路26とを具備する循環式乾燥装置、およびこれを用いた循環式乾燥方法。
請求項（抜粋）：
加熱器と乾燥器との間でガスを循環させながら、加熱器で加熱されたガスによって乾燥器内の揮発成分を含む乾燥対象物を乾燥する循環式乾燥装置であって、加熱器と乾燥器との間で循環しているガスの一部を抜き取る分岐流路と、抜き取られたガスに含まれる揮発成分を分解または回収するガス処理装置と、ガス処理装置から排出されるガスを、加熱器と乾燥器との間で循環しているガスに戻す供給流路とを具備することを特徴とする循環式乾燥装置。
IPC (5件)：
F26B 21/04
, F26B 3/04
, F26B 9/06
, F26B 21/06
, F26B 23/10
F26B 21/04 B
, F26B 3/04
, F26B 9/06 A
, F26B 21/06
, F26B 23/10 Z
3L113AA01
, 3L113AB02
, 3L113AC03
, 3L113AC05
, 3L113AC08
, 3L113AC20
, 3L113AC56
, 3L113AC67
, 3L113AC83
, 3L113AC87
, 3L113BA01
, 3L113CA11
, 3L113CA12
, 3L113CB12
, 3L113CB24
