特許

J-GLOBAL ID：200903051993131260

処理液供給装置

発明者： 奥野 英治 ,  尾崎 一人
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-100903
公開番号（公開出願番号）：特開平11-290792
出願日： 1998年04月13日
公開日（公表日）： 1999年10月26日
要約：

【要約】【課題】 処理液を無駄に排液せずに容易にノズル内のエア抜きを行って処理液供給時の気泡によるトラブルを防止する。【解決手段】 ノズル口8に連通する塗布液通路のノズル部材9内の液溜り部14に通気性かつ非通液性の素材よりなる区画部材21,22が設けられ、これらの区画部材21,22内を減圧ポンプ25で減圧するため、外部塗布液槽17から処理液供給配管15を介して液溜り部14内に至った塗布液16中に気泡が存在していたとしても、液溜り部14内の区画部材21,22に気泡だけが吸引されて取り込まれ、気泡の取り除かれた塗布液はスリット部8aを経てノズル口8から基板2の被塗布面に吐出される。

請求項（抜粋）：

処理液供給口から基板に対して処理液を供給する処理液供給装置であって、前記処理液供給口に連通する通路と、該通路に気体吸引除去部が設けられ該通路内の気体を前記気体吸引除去部を介して前記通路の外部に吸引除去する気体吸引除去手段とを有することを特徴とする処理液供給装置。

IPC (6件)：

B08B 3/02 ,  B05C 5/00 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 ,  B05C 11/10

FI (6件)：

B08B 3/02 B ,  B05C 5/00 Z ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/304 643 D ,  H01L 21/304 643 A ,  B05C 11/10