特許

J-GLOBAL ID：200903051996350842

高空間分解能エリプソメトリー装置

発明者： ピエル・ジャン-フィリップ ,  ストール・ジャン-ルイ ,  ザホルスキー・ドリアン
出願人/特許権者： ソシエテ・ドゥ・プロデュクシオン・エ・ドゥ・ルシェルシェ・アプリケ
代理人 (1件)： 筒井 大和 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-508980
公開番号（公開出願番号）：特表平11-510897
出願日： 1996年07月03日
公開日（公表日）： 1999年09月21日
要約：

【要約】エリプソメトリー装置は、第1光学系(10)と組合され、第1光学系(10)からの光ビームを試料上に集束させる第1集束手段(L1)と、第2光学系と組合され、試料表面で反射したビームを第2光学系の入力に集束させる第2集束手段(L2)と、第1および第2集束手段(L1、L2)と共に集束された反射したビームの位置を補正して、光ビーム受け面と反対側の試料の表面で発生した干渉反射を除去しかつ光検出器(7)で最大信号レベルが得られるようにする光学補正手段(PT)とを有している。

請求項（抜粋）：

-光源(2)、試料配置(TAB)および光検出器(7)を有し、 -前記光源と前記試料配置との間に配置され、第1偏光光学手段(15)を備え、偏光光ビームにより傾斜した入射角で試料(PA)を照射する第1光学系(10)を有し、 -前記試料配置と前記光検出器との間に配置され、第2偏光光学手段(25)を備え、前記試料(PA)から反射してきた光を集光する第2光学系(20)を有し、 -前記第1および第2光学系の一方がそれに入射したビームを振幅および/または位相を変調するようにされ、 -前記第1光学系(10)と組合され、前記第1光学系(10)の照射ビームを前記試料に集束させる第1集束手段(L1)を有し、 -前記第2光学系と組合わされ、前記試料表面からの反射ビームを前記第2光学系の入口に集束させる第2集束手段(L2)を有し、そして -前記光検出器で受けた光の振幅および/または位相を偏光角の関数として測定して前記試料の表面状態の情報を発生する電子制御および処理手段(GES1、GES2)を有する形式のエリプソメトリー装置において、 前記第1および第2集束手段(L1、L2)と組合わされ、収束した反射ビームの位置を補正して、照射ビームを受ける表面と反対側の前記試料の表面で発生した干渉反射を除去しそして前記光検出器(7)において最大信号レベルを得るようにする光学補正手段(PT)を有することを特徴とするエリプソメトリー装置。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 偏光解析装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-319423   出願人：日本真空技術株式会社
• 特開平4-104243
  
• 特開平4-104243
  

引用文献：

審査官引用 (1件)

• “Spatially resolved ellipsometry”