特許
J-GLOBAL ID：200903052000592973
X線反射率解析方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-058655
公開番号（公開出願番号）：特開平8-254509
出願日： 1995年03月17日
公開日（公表日）： 1996年10月01日
要約：
【要約】【目的】 X線反射率法による薄膜評価において,測定データのモデルによる最適化をおこなう場合の処理の迅速化と高信頼化を図る。【構成】 1)基板上に被着した被膜の表面からの反射X線強度の対数値の入射角依存性を表すX線反射曲線を,基板の表面からの反射X線強度のの対数値の入射角依存性を表すX線反射曲線で除したデータにより,前記被膜の評価を行う,2)前記基板表面からの反射率は,前記被膜を除去した後に測定する,3)前記基板表面からの反射率は,前記被膜の反射曲線を基板のみのモデルで最適化して得られた平均的反射曲線を用いる,4)前記データをフーリエ変換して被膜の厚さを求める。
請求項（抜粋）：
基板上に被着した被膜の表面からの反射X線強度の対数値の入射角依存性を表すX線反射曲線を,基板の表面からの反射X線強度の対数値の入射角依存性を表すX線反射曲線で除したデータにより,前記被膜の評価をおこなうことを特徴とするX線反射率解析方法。
IPC (3件)：
G01N 23/203
, G01B 15/02
, H01L 21/66
G01N 23/203
, G01B 15/02 A
, H01L 21/66 P
, H01L 21/66 L
