特許
J-GLOBAL ID：200903052005606514
半導体ウエハ用洗浄リンス槽
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 秀樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-350731
公開番号（公開出願番号）：特開平5-166787
出願日： 1991年12月12日
公開日（公表日）： 1993年07月02日
要約：
【要約】【目的】 淀みや滞留域の発生をなくして純水の置換特性ないしは洗浄能力を効率的に維持可能にし、洗浄品質を向上する。【構成】 純水で半導体ウエハcを洗浄リンスする工程で使用する半導体ウエハ用洗浄リンス槽において、前記槽上部に設けられて純水を水平方向に吐き出す純水供給部4と、前記槽内部の純水を下部方向へ導いて排水する排水口6とを備えている。
請求項（抜粋）：
純水で半導体ウエハを洗浄リンスする工程で使用する半導体ウエハ用洗浄リンス槽において、前記槽上部に設けられて純水を水平方向に吐き出す純水供給部と、前記槽内部の純水を下部方向へ導いて排水する排水口とを備えたことを特徴とする半導体ウエハ用洗浄リンス槽。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, B08B 3/10
